菁薄膜材料制备原理技术及应用

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/ 冶金工业出版社 / 232页 / 平装 / 18.00元 / 1999-10

菁薄膜材料制备原理技术及应用的内容简介

本书以薄膜材料为中心,系统地讨论了薄膜技
术中常用的真空技术基础知识、各种物理和化学气
相沉积技术和方法、薄膜材料的形核及生长理论、
薄膜材料微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微
观结构和成分的表征方法等。在此基础上,本书还
有选择性地讨论了薄膜材料在力学、光电子学、磁
学等领域的典型应用实例,其中涉及的领域包括各
种机械防护性涂层、金刚石膜、光电子器件、集成
光学器件、磁记录及光记录介质材料等。
本书可作为高等学校材料、物理及相关专业的
本科生、研究生及教师的教学参考书,也可供从事
薄膜材料的制备、生产、研究的工程技术人员参考
使用。

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